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型號:

X光鍍層測厚儀,熒光膜厚儀

描述:X光鍍層測厚儀,熒光膜厚儀具有更好的性能和便宜的價格,藝慈儀器是國產(chǎn)XRF的制造。在金屬鍍層檢測行業(yè),*50%。

  • 廠商性質(zhì)

    經(jīng)銷商
  • 更新時間

    2025-05-18
  • 訪問量

    1847
詳細(xì)介紹
品牌其他品牌行業(yè)專用類型通用
價格區(qū)間面議儀器種類臺式/落地式
應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池,包裝/造紙/印刷

XAU光譜分析儀儀器簡介:

XAU光譜分析儀是一款設(shè)計結(jié)構(gòu)緊湊,模塊精密化程度*的光譜分析儀,采用了下照式C型腔體設(shè)計,是一款一機多用型光譜儀。

應(yīng)用核心EFP算法和微光聚集技術(shù),既保留了專用測厚儀檢測微小樣品和凹槽的性能,又可滿足微區(qū)RoHS檢測及成分分析。

被廣泛用于各類產(chǎn)品的質(zhì)量管控、來料檢驗和對生產(chǎn)工藝控制的測量使用。


產(chǎn)品優(yōu)勢:

  • 微小樣品檢測:最小測量面積0.03mm2(加長測量時間可小至0.01mm2)

  • 變焦裝置算法:可改變測量距離測量凹凸異形樣品,變焦距離可達(dá)0-30mm

  • 自主研發(fā)的EFP算法:Li(3)-U(92)元素的涂鍍層,多層多元素,甚至有同種元素在不同層也可精準(zhǔn)測量

  • *解譜技術(shù):減少能量相近元素的干擾,降低檢出限

  • 高性能探測器:SDD硅漂移窗口面積25/50mm2探測器

  • 光路系統(tǒng):微焦加強型射線管搭配聚焦、光路交換裝置


應(yīng)用領(lǐng)域:

廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)、新能源行業(yè)、5G通訊、五金建材、航天航空、環(huán)保行業(yè)、汽車行業(yè)、貴金屬檢測、精密電子、電鍍行業(yè)等多種領(lǐng)域

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多元迭代EFP核心算法ZL號:2017SR567637)

專業(yè)的研發(fā)團隊在Alpha和Fp法的基礎(chǔ)上,計算樣品中每個元素的一次熒光、二次熒光、靶材熒光、吸收增強效應(yīng)、散射背景等多元優(yōu)化迭代開發(fā)出EFP核心算法,結(jié)合*光路轉(zhuǎn)換技術(shù)、變焦結(jié)構(gòu)設(shè)計及穩(wěn)定的多道脈沖分析采集系統(tǒng),只需要少量的標(biāo)樣來校正儀器因子,可測試重復(fù)鍍層、非金屬、輕金屬、多層多元素以及有機物層的厚度及成分含量。

單涂鍍層應(yīng)用:如Ni/Fe、Ag/Cu等

多涂鍍層應(yīng)用:如Au/Ni/Fe、Ag/Pb/Zn等

合金鍍層應(yīng)用:如ZnNi/Fe、ZnAl/Ni/Cu等

合金成分應(yīng)用:如NiP/Fe,通過EFP算法,在計算鎳磷鍍層厚度的同時,還可精準(zhǔn)分析出鎳磷含量比例。

重復(fù)鍍層應(yīng)用:不同層有相同元素,也可精準(zhǔn)測量和分析。

如釹鐵硼磁鐵上的Ni/Cu/Ni/FeNdB,第一層Ni和第三層Ni的厚度均可測量。


國產(chǎn)X射線熒光鍍層測厚儀為什么好快速:1分鐘就可以測定樣品鍍層的厚度,并達(dá)到測量精度要求。
方便:X熒光光譜儀部分機型采用進口國際上的電制冷半導(dǎo)體探測器,能量分辨率更優(yōu)于135eV,測試精度更高。并且不用液氮制冷,不用定期補充液氮,操作使用更加方便,并且運行成本比同類的其他產(chǎn)品更低。
無損:測試前后,樣品無任何形式的變化。
直觀:實時譜圖,可直觀顯示元素含量。
測試范圍廣:X熒光光譜儀,是一種物理分析方法,其分析與樣品的化學(xué)結(jié)合狀態(tài)無關(guān)。對在化學(xué)性質(zhì)上屬同一族的元素也能進行分析,抽真空可以測試從Na到U。
可靠性高:由于測試過程無人為因素干擾,儀器自身分析精度、重復(fù)性與穩(wěn)定性很高。所以,其測量的可靠性更高。
滿足不同需求:測試軟件為WINDOWS操作系統(tǒng)軟件,操作方便、功能強大,軟件可監(jiān)控儀器狀態(tài),設(shè)定儀器參數(shù),并就有多種*分析方法,工作曲線制作方法靈活多樣,方便滿足不同客戶不同樣品的測試需要。
性價比高:相比化學(xué)分析類儀器,X熒光光譜儀在總體使用成本上有優(yōu)勢的,可以讓更多的企業(yè)和接受。
簡易:對人員技術(shù)要求較低,操作簡單方便,并且維護簡單方便。

技術(shù)指標(biāo)

元素分析范圍從硫(S)到鈾(U)中間的任意金屬鍍層

一次可同時分析多達(dá)五層鍍層
*薄可測試0.005μm
分析含量一般為2ppm到99.9% 
鍍層厚度一般在50μm以內(nèi)(每種材料有所不同)
任意多個可選擇的分析和識別模型
相互獨立的基體效應(yīng)校正模型
多變量非線性回收程序
長期工作穩(wěn)定性高

工作環(huán)境:
度適應(yīng)范圍為15℃至30℃
電源: 交流220V±5V, 建議配置交流凈化穩(wěn)壓電源
儀器尺寸:576(W) x 495 (D) x 545(H) mm
重量:90 kg

檢測實例

鍍鎳器件是比較常見的電鍍器件,其鎳鍍層在保護銅基體免受氧化同時還能起到美觀的作用。這里以測試客戶的一件銅鍍鎳樣品為例說明此款儀器的測試效果


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